(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211040963.5 (22)申请日 2022.08.29 (71)申请人 苏州科韵激光科技有限公司 地址 215100 江苏省苏州市吴中经济开发 区郭巷街道淞苇路6 68号 (72)发明人 叶浩　黄阳　 (74)专利代理 机构 北京市万慧达律师事务所 11111 专利代理师 李佳桁 (51)Int.Cl. B23K 26/00(2014.01) B23K 26/046(2014.01) B23K 26/70(2014.01) (54)发明名称 一种基于Micro OLED的激光修复系统及修 复方法 (57)摘要 本发明涉及一种基于MicroOLED的激光修复 系统及修复方法， 基于MicroOLED的激光修复系 统用于修复MicroOLED上的亮点缺陷像素， MicroOLED从上至下依次堆叠设有Lens层、 封装 层、 彩膜层、 IZO阴极层； 激光修复系统包括依次 设置的纳秒 激光装置、 扫描机构、 聚焦机构； 聚焦 机构中设有多个聚焦镜片； 纳秒 激光装置用于发 出激光束， 扫描机构用于对激光束补偿位置， 聚 焦机构用于对激光束进行聚焦形成加工光斑， 加 工光斑用于依次对亮点缺陷像素所在区域的 Lens层、 封装层、 彩膜层进行碳化。 通过上述技术 方案， 可解决MicroOLED中单个像素的亮点缺陷 修复良率低、 易损伤其 他周围像素的问题。 权利要求书1页 说明书5页 附图4页 CN 115283820 A 2022.11.04 CN 115283820 A 1.一种基于Micro  OLED的激光修复系统， 其特征在于， 用于修复Micro  OLED上的亮点 缺陷像素， 所述Micro  OLED从上至下依次堆叠设有Lens层、 封装层、 彩膜层、 IZO阴极层； 所述激光修复系统包括依次设置的纳秒激光装置、 扫描机构、 聚焦机构； 所述聚焦机构 中设有多个聚焦镜片； 所述纳秒激光装置用于发出激光束， 所述扫描机构用于对所述激光 束补偿位置， 所述聚焦机构用于对所述激光束进行聚焦形成加工光斑， 所述加工光斑用于 依次对所述亮点 缺陷像素 所在区域的Lens层、 封装层、 彩膜层进行碳 化。 2.根据权利要求1所述的基于Micro  OLED的激光修复系统， 其特征在于， 所述激光修复 系统还包括光路调向机构， 其包括反射透镜； 所述光路调向机构设于所述聚焦机构的光束 出口端外侧， 用于将从所述聚焦机构中聚焦后的激光束引导至所述亮点缺陷像素所在区 域、 并形成圆形加工光斑。 3.根据权利要求1或2所述的基于Micro  OLED的激光修复系统， 其特征在于， 所述聚焦 机构为L形聚焦单元， 所述L形聚焦单元的光束入口端并列设有四个聚焦镜片， 用于聚焦所 述激光束并使所述加工光斑的尺寸范围不超过1.5um。 4.根据权利要求1所述的基于Micro  OLED的激光修复系统， 其特征在于， 所述激光修复 系统还包括扩束镜， 其设于所述纳秒激光装置、 所述扫描机构 两者之间， 用于放大所述激光 束。 5.根据权利要求2所述的基于Micro  OLED的激光修复系统， 其特征在于， 所述激光修复 系统还包括CCD成像装置， 其包括观测 透镜； 所述观测透镜设于所述反射透镜后端， 聚焦后 的所述激光束穿过 所述观测透 镜后、 射向所述亮点 缺陷像素 所在区域。 6.根据权利要求5所述的基于Micro  OLED的激光修复系统， 其特征在于， 所述激光修复 系统还包括照明装置， 设于所述C CD成像装置的一侧。 7.根据权利要求3所述的基于Micro  OLED的激光修复系统， 其特征在于， 所述亮点缺陷 像素的尺寸范围不超过5um。 8.一种基于Micro  OLED的激光修复方法， 其特征在于， 基于如 上权利要求1 ‑7任一项所 述的基于 Micro OLED的激光 修复系统， 所述激光 修复方法包括 步骤： 获取Micro  OLED上的亮点 缺陷像素的位置信息； 设定激光束路径及加工光斑的尺寸范围； 控制纳秒激光装置工作， 通过聚焦后的所述激光束对所述亮点缺陷像素所在区域的 Lens层、 封装层、 彩膜层依次进行碳 化。 9.根据权利要求8所述的基于Micro  OLED的激光修复方法， 其特征在于， 设定激光束路 径及加工光斑的尺寸范围， 具体包括： 根据所述 位置信息调整所述激光束路径； 调整所述 聚焦机构中聚焦镜片的数量及间距， 使得所述加工光斑的尺寸范围满足加工 要求。 10.根据权利要求9所述的基于Micro  OLED的激光修复方法， 其特征在于， 所述亮点缺 陷像素的尺寸范围不超过5um， 所述加工光斑的尺寸范围不超过1.5um。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115283820 A 2一种基于Micro  OLED的激光修复 系统及修复方 法 技术领域 [0001]本发明涉及Micro  OLED激光修复技术领域， 尤其是指一种基于Micro  OLED的激光 修复系统及修复方法。 背景技术 [0002]目前， 在Micro  OLED制程中， OLED会产生亮点、 闪点、 碎亮点等常见亮点缺陷。 一般 采用激光对显示屏的阴极层进行碳 化， 从而打灭异常亮点、 实现缺陷修复。 [0003]在Micro OLED工艺中， 为了提高亮度， OLED中最近开发了Lens和IZO电极， 并应用 在OLED批量 生产中。 [0004]由于Micro  OLED的像素尺寸非常微小(通常都小于5um)， 而且阴极之下存在所有 像素的公共膜层及IZO电极。 当进 行碳化时， 只完全碳化单个像素的阴极层而不损伤下边的 公共膜层， 在操作上非常困难、 较难实现。 其中， 修复不到位时， 存在阴极碳化不完全、 依旧 存在亮点的现象； 修复单个像素的亮点缺陷时， 则容易损伤公用 膜层、 导致周围像素被打 灭。 即， 现有技术中的设备容易在IZO电极层(即氧化铟锌层)中产生损伤、 损伤 其他膜层， 导 致亮点缺陷修复的稳定性低、 生产良率低。 [0005]因此， 需要改进现有技术， 在不损伤其他周围像素的情况下、 对单个像素的亮点缺 陷进行高效稳定地 修复。 发明内容 [0006]为解决上述技术问题的至少之一， 本 发明提供一种基于Micro  OLED的激光修复系 统及修复方法， 所述基于Micro  OLED的激光修复系统用于解决Micro  OLED中单个像素的亮 点缺陷修复良率低、 易损伤其 他周围像素的问题。 [0007]为实现上述发明目的， 本发明提供了一种基于Micro  OLED的激光修复系统， 用于 修复Micro  OLED上的亮点缺陷像素， 所述Micro  OLED从上至下依次堆叠设有Lens层、 封装 层、 彩膜层、 IZO阴极层； [0008]所述激光修复系统包括依次设置的纳秒激光装置、 扫描机构、 聚焦机构； 所述聚焦 机构中设有多个聚焦镜片； 所述纳秒激光装置用于发出激光束， 所述扫描机构用于对所述 激光束补偿位置， 所述聚焦机构用于对所述激光束进行聚焦形成加工光斑， 所述加工光斑 用于依次对所述亮点 缺陷像素 所在区域的Lens层、 封装层、 彩膜层进行碳 化。 [0009]进一步的， 所述激光修复系统还包括光路调向机构， 其包括反射透镜； 所述光路调 向机构设于所述聚焦机构的光束 出口端外侧， 用于将从所述聚焦机构中聚焦后的激光束引 导至所述亮点 缺陷像素 所在区域、 并形成圆形加工光斑。 [0010]进一步的， 所述聚焦机构为L形聚焦单元， 所述L形聚焦单元的光束入口端并列设 有四个聚焦镜片， 用于聚焦所述激光束并使所述加工光斑的尺寸范围不超过1.5um。 [0011]进一步的， 所述激光修复系统还包括扩束镜， 其设于所述纳秒激光装置、 所述扫描 机构两者之间， 用于放大 所述激光束。说　明　书 1/5 页 3 CN 115283820 A 3