(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222249082.6 (22)申请日 2022.08.25 (73)专利权人 安徽晶瑞新材 料有限公司 地址 247000 安徽省池州市江南产业 集中 区新材料产业园9号厂房 (72)发明人 光善如　程世显　熊文金　 (51)Int.Cl. B08B 3/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01) H01L 21/67(2006.01) (54)实用新型名称 一种多晶硅片表面淋洗装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种多晶硅片表面淋洗 装置， 具体涉及多晶硅片生产加工技术领域， 包 括两个对称设置的限位支板， 所述限位支板的一 侧安装有导向框， 且在导向框的内部设置有淋洗 机构； 所述淋洗组件包括设置在导向框内部的传 动螺杆， 且传动螺杆的外壁套设有套接螺纹块， 在套接螺纹块的一侧位置处设置有多个第一连 接方管。 本实用新型通过设置淋洗机构， 第一连 接方管带动多点位下喷管进行移动， 同时连接管 带动第二连接方管使下对接管向上倾斜移动， 多 点位下喷管可以对多晶硅片上倾斜面进行清洁， 多点位上喷管可以对多晶硅片下倾斜面进行清 洁， 实现多点位大面积覆盖式清洁， 清洁效果更 好， 更加彻底全面。 权利要求书1页 说明书4页 附图4页 CN 217831002 U 2022.11.18 CN 217831002 U 1.一种多晶硅片表面淋洗装置， 包括两个对称设置的限位支板(1)， 其特征在于： 所述 限位支板(1)的一侧安装有导向框(2)， 且在导向框(2)的内部设置有淋洗 机构； 所述淋洗机构包括设置在导向框(2)内部的传动螺杆(3)， 且传动螺杆(3)的外壁套设 有套接螺纹块(4)， 在 套接螺纹块(4)的一侧位置处设置有多个第一连接方管(5)， 所述第一 连接方管(5)的一侧连通有多点位下喷管(6)， 且多点位下喷管(6)的下方安装有多点位上 喷管(7)， 在多点位上喷管(7)的一端设置有第二连接方管(10)， 所述第二连接方管(10)的 一侧安装有连接管(8)， 且在第二连接方 管(10)的下 方设置有下对接管(9)。 2.根据权利要求1所述的一种多晶硅片表面淋洗装置， 其特征在于： 所述套接螺纹块 (4)与传动螺杆(3)之间螺纹连接， 且第一连接方 管(5)与多点 位下喷管(6)之间相连通。 3.根据权利要求1所述的一种 多晶硅片表面淋洗装置， 其特征在于： 所述多点位下喷管 (6)和多点位上喷管(7)对称设置， 所述连接管(8)两端分别与第二连接方管(10)和第一连 接方管(5)两两之间相连通。 4.根据权利要求1所述的一种多晶硅片表面淋洗装置， 其特征在于： 所述传动螺杆(3) 的一端连接有驱动电机(1 1)， 且驱动电机(1 1)的输出端与传动螺杆(3)之间同轴传动连接 。 5.根据权利要求1所述的一种 多晶硅片表面淋洗装置， 其特征在于： 两个所述限位支板 (1)相对一侧且位于导向框(2)下 方位置处均安装有定位框(12)。 6.根据权利要求1所述的一种 多晶硅片表面淋洗装置， 其特征在于： 所述第 一连接方管 (5)的顶端 连通有注入 软管(13)， 且注入软管(13)的底端安装有增压泵机(14)， 在增压泵机 (14)输入端连通有吸入管(15)， 所述吸入管(15)的外 部套设有水箱(16)。 7.根据权利要求1所述的一种 多晶硅片表面淋洗装置， 其特征在于： 其中一个所述限位 支板(1)的底端安装有第一联动螺环块(17)， 在第一联动螺环块(17)的一侧设置有第二联 动螺环块(18)， 所述第二联动螺环块(18)的内壁螺纹连接有双向传动螺杆(19)， 且双向传 动螺杆(19)一端安装有同轴传动连接的伺服电机(20)， 所述双向传动螺杆(19)的外壁且位 于第二联动螺环块(18)一侧套设有支撑框(21)， 在支撑框(21)下方安装有两个支撑柱 (22)。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217831002 U 2一种多晶硅片表面淋洗装 置 技术领域 [0001]本实用新型涉及多晶硅片生产加工技术领域， 更具体地说， 本实用新型涉及一种 多晶硅片表面淋洗装置 。 背景技术 [0002]现有的多晶硅片是制 备太阳能电池的主要材料， 多晶硅片在经过研磨、 抛光等加 工工序后， 会导致其上下位置处均存在大量的杂质， 这样就需要用到淋洗装置进行清洗才 做。 [0003]专利申请公布号CN212190272U的实用新型专利公开了一种多晶硅片表面淋洗装 置， 包括外框、 电机座、 轴承座、 电机、 转轴、 凸轮、 升降框、 多晶硅片固定框、 淋洗喷嘴、 储水 槽、 基座； 外框螺接在基座中部， 外框两侧设有电机座和轴承座， 电机座上安置电机， 转轴一 端穿过轴承座， 转轴上设两个凸轮， 两个凸轮带动两个升降框交替升降， 多晶硅片固定框固 定多晶硅片， 随着两个升降框的交替升降， 多晶硅片交替翻转， 淋洗喷嘴穿过外框左右侧 壁， 储水槽用于收集淋洗液， 位于基座下方。 本实用新型一种多晶硅片表面淋洗装置能够实 现多晶硅片 两面的同时淋洗， 水流与多晶硅片的表面冲淋夹角始终小于90 °， 水流能沿着多 晶硅片表面 流走， 同时带 走多晶硅片表面的杂质， 淋洗效果 好。 [0004]综合上述专利在清洁时， 只能对准倾斜的多晶硅片一个点位进行清洁冲洗， 这样 在清洁时， 无法达 到多点位全方位覆盖清洁， 这样清洁不够彻底， 降低了清洁效果。 实用新型内容 [0005]为了克服现有技术的上述缺陷， 本实用新型的实施例提供一种多晶硅片表面淋洗 装置， 通过设置淋洗机构， 多点位上喷管可以对多晶硅片下倾斜面进 行清洁， 实现多点位大 面积覆盖式清洁， 清洁效果更好， 更加彻底全面， 以解决上述背景技 术中提出的问题。 [0006]为实现上述目的， 本 实用新型提供如下技术方案： 一种多晶硅片表面淋洗装置， 包 括两个对称设置的限位支板， 所述限位支板的一侧 安装有导向框， 且在导向框的内部设置 有淋洗机构； [0007]所述淋洗组件包括设置在 导向框内部的传动螺杆， 且传动螺杆的外壁套设有套接 螺纹块， 在套接螺纹块的一侧 位置处设置有多个第一连接方管， 所述第一连接方管 的一侧 连通有多点位下喷管， 且多点位下喷管 的下方安装有多点位上喷管， 在多点位上喷管 的一 端设置有第二连接方管， 所述第二连接方管 的一侧安装有连接管， 且在第二连接方管 的下 方设置有下对接管。 [0008]在一个优选地实施方式中， 所述套接螺纹块与传动螺杆之间螺纹连接， 且第一连 接方管与多点位下喷管之间相连通， 所述多点位下喷管和多点位上喷管对称设置， 所述连 接管两端分别与第二连接方 管和第一连接方 管两两之间相连通。 [0009]在一个优选地实施方式中， 所述传动螺杆的一端连接有驱动电机， 且驱动电机的 输出端与传动螺杆之间同轴传动连接， 两个所述限位支板相对一侧且位于导向框下方位置说　明　书 1/4 页 3 CN 217831002 U 3